据台湾工商时报报导，苹果本年下半年推出新款 iPad 及 iPhone 12产品线系列处理器，其间，iPad Air 及 iPhone 12全系列都选用 A14使用处理器，至于即将在11月宣告的 Arm 架构 Macbook 则会採用自行研制的 A14X 处理器。苹果 A14以及 A14X 均已在台积电选用5纳米制程量产。
音讯称，苹果已着手进行新一代A15系列处理器开发，预期会选用台积电5nm加强版(N5P)制程，下一年第三季开端投片。
晶圆代工龙头台积电及微影设备大厂 ASML 于上星期法人阐明会透露了更多3纳米细节。台积电3纳米选用鳍式场效电晶体(FinFET)架构及极紫外光(EUV)微影技能，逻辑密度与5纳米相较将大幅添加70%，且 EUV 光罩层数将倍增且超越20层。因而，台积电活跃收购 EUV 曝光机设备，未来三~ 五年仍将是具有全球最大 EUV 产能的半导体厂，包含家登及崇越等供货商可望受惠。
台积电 EUV 微影技能已进入量产且制程包含7 + 纳米、6纳米、5纳米。据设备业者音讯，台积电7 + 纳米选用 EUV 光罩层最多达四层，超微新一代 Zen 3架构处理器预期是选用该制程量产。6纳米已在第四季进入量产，EUV 光罩层数较7 + 纳米添加一层，包含联发科、辉达、英特尔等大厂都将选用6纳米出产新一代产品。
台积电下半年开端量产5纳米制程，主要为苹果量产 A14及 A14X 处理器，包含超微、高通、辉达、英特尔、博通、迈威尔等都会在下一年之后导入5纳米制程量产新一代产品。5纳米 EUV 光罩层数最多可达14层，所以 Fab 18厂第一期至第三期已建置巨大 EUV 曝光机台设备因应微弱需求，台积电下一年将推出5纳米加强版 N5P 制程并导入量产，后年将推出5纳米优化后的4纳米制程，设备业者预期 N5P 及4纳米的 EUV 光罩层数会较5纳米添加。
台积电在日前的法说会中宣告，3纳米研制进展契合预期且会是另一个严重制程节点，与5纳米制程相较，3纳米的逻辑密度可添加70%，在同一功耗下可进步15% 的运算效能，在同一运算效能下可削减30% 功耗。3纳米制程选用的 EUV 光罩层数首度打破20层，业界预估最多可达24层。
ASML 执行长 Peter Wennink 在日前法说会中指出，5纳米逻辑制程选用的 EUV 光罩层数将超越10层，3纳米制程选用的 EUV 光罩层数会超越20层，跟着制程微缩 EUV 光罩层数会明显添加，并替代深紫外光(DUV)多重曝光制程。
台积电5纳米及3纳米的 EUV 光罩层数倍数添加，供给 EUV 光罩盒(EUV Pod)的家登受惠最大，今、明两年产能均已被大客户预定一空。至于 EUV 产能大幅进步，署理 EUV 光阻液的崇越接单畅旺，订单相同排到下一年下半年。
