现在，芯片商场规模继续扩展，我国半导体工业链企业，取得快速开展的机遇。在封测范畴，国内厂商已把握老练技能，芯片规划职业，国内也出现出了许多尖端公司。整条半导体工业链，只剩半导体设备和半导体原资料，仍有壁垒没有被打破。而这其间，国人最为重视的产品当属光刻胶。
光刻胶是芯片制作进程中所要耗费的重要原资料，对光刻工艺会发生巨大影响。在芯片商场快速扩张布景下，光刻胶需求量也继续提高。
但惋惜的是，国内厂商并不能满意国内芯片出产企业的光刻胶需求。由于，长期以来，我国厂商所运用的光刻胶都是海外收购，光刻胶国产化程度十分低。
据悉，现在光刻胶根本被美国企业和日本企业独占，并且越是高端的光刻胶，独占程度越高。以我国商场为例，用于LED半导体的光刻胶产品根本自给自足，但用于先进工艺芯片出产的KrF光刻胶以及ArF光刻胶，国产率却缺乏1%。我国光刻胶研制企业与海外厂商的实力距离，可见一斑。
光刻胶壁垒之所以如此难打破，很重要的原因是，光刻胶需求独自定制。配方调试是个十分费事的进程，一旦客户与供货商树立合作关系，那么两家厂商就不会容易抛弃互相。这导致光刻胶商场头部效应越来越显着，独占状况益发严峻。
并且，光刻胶商场规模并不算大，在入门门槛越老越高，报答越来越小的状况下，许多厂商都抛弃了对这一产品进行研制。
不过，想要树立自主、可控的芯片工业链。光刻胶自研，是不行躲避的环节。也是因而，国内一向有企业在加大光刻胶研制投入。
9月13日，华懋科技就发布公告，宣告斥资6亿人民币，向全资子公司华懋(东阳)新资料进行增资。
依照方案，增资后的东阳新资料将出资2.8亿与其他企业，合资建立半导体资料公司。建造高端半导体光刻资料以及电子溶剂项目，整个项目出资总额超越30亿。
这一决议在业界引起不小的颤动，究竟，2020年整个我国半导体光刻胶商场规模不过才3.5亿美元。考虑到国产光刻胶占比极低，华懋科技想要回收这笔出资应该会花费很长时刻。并且单从成果来看，这笔出资还面临着很高的打水漂危险。究竟光刻胶自身就有很高的壁垒，打破难度相当大。
那么华懋科技为什么还坚持投入巨资进行资料攻坚呢？在笔者看来，原因主要有两点：
国盛证券研究所数据显现，光刻胶商场规模在曩昔四年时刻里翻了挨近三倍，并且上一年增速高达40%，未来商场若是继续扩展，华懋科技出资报答也会不断增大。
技能攻坚是近几年我国半导体工业开展的大方向，当时，相关企业进入该赛道，不仅能取得国家方针支撑，还能取得下流厂商订单。
关于华懋科技而言，当时是绝佳的进场机遇。另一方面，大多数同类型厂商都在加大研制投入，华懋科技假如不跟进，那么等候该厂商很可能是筛选结局。
事实上，在华懋科技之前，南大光电现已宣告取得小规模ArF光刻胶订单。由此可以看出，日美技能约束现已被打破，国产芯片又一短板不久后就会被补齐。
